(第35回)

9−4.洗浄工程


写真1手動洗浄

洗浄の目的

研削、研磨、芯取り工程で付着した汚れを落とし、コ
ーティング時に必要となる研磨面の清浄度を得ること

A:洗剤(界面活性剤)。レンズ表面に残った水溶性汚染
  物質を溶解除去する工程で、使用する洗剤は陰イオン
  系界面活性剤。

B:リンス層。レンズ表面に付着している洗剤、水溶性
  汚染物質の除去
 
C:純水層。水中不純物の再付着をさけて水溶性をよ
  くするために比抵抗が数MΩの純水を使用する。

D:IPA槽。純水をIPAと置換して、水分を除去する。

問題点

光学ガラスは、普通のガラスとは異なり、アルカリ土類、
希土類の金属酸化物を含んでおり、水に弱いもの、酸
に弱いものアルカリに弱いものなどがあるため、洗浄
は細心の注意をはらわなければならない。
また、梅雨で湿度が高いとき、ヤケといってレンズ表面
が曇る現象が起こる。(表面が水によって浸蝕される)


 


 更新3月上旬の予定です。
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 第1回 歴史、光の反射
 第2回 光の屈折
 第3回 光のスペクトル、光の色、物体の色
 第4回 光の干渉、回折、偏光
 第5回 単レンズの概要
 第6回 顕微鏡の光学系
 第7回 望遠レンズ、テレコンバータ
 第8回 写真レンズ
 第9回 レーザ光学系
 第10〜12回 プリズム
 第13回 回折格子
 第14回 位相板
 第15〜16回 収差
 第17〜18回 各種単レンズ
 第19〜21回 反射鏡系
 第22回 分解能について
 第23回 ファイバースコープ
 第24回 縮小投影露光装置:ステッパ(逐次移動式露光方式)
 第25回 光ピックアップ
 第26回 レーザプリンタ
 第27回 液晶プロジェクター
 第28回 レーザー加工装置
 第29回 加工用レーザの種類と特徴
 第30回 赤外線光学系
 第31回 赤外線光学系
 第32回 荒摺り工程
 第33回 研削工程
 第34回 研磨工程